Understanding Photomask Data

Sizing  Sizing  Sizing  

In   ,    

is  the    such  as  text  and  graphics.    

           

Posi7ve  Space  

Nega7ve    Space  

Hello World!

Posi7ve  Space  is  a  vase  

In   ,      a  binary  photomask  will  have  two  tones:      1)  the  tone  inside  the  closed  geometry  and    2)  the  tone  outside  the  closed  geometry.  

Inside  the  geometry  

Outside  the  geometry  

One  tone  will  be  clear  (   ),  the  other  opaque  (dark).  

The  posi7ve  space  is  clear  

Clear  geometry  /  Dark  field  

The  nega7ve  space  is  clear  

Dark  geometry  /  Clear  field  

Two  Possible  Mask  Tones  

The    on  the  photoblank  is  exposed  to  light  in  the  shape  of  the  mask  design  paNern.  

For   ,  the  resist  exposed  to  light  

becomes  soluble  and  easily  removed,  allowing  the  

chrome  to  be  etched  with  .      

For   ,  the  exposed  resist  becomes  insoluble,  allowing  the  

chrome  to  be  etched   .  

Mask  data  is      

This  image  is  wriNen  in  the  chrome  surface  of  the  mask.   The  mask  is  used  

in  the  exposure  tool.  

The  designer  draws  the  physical  layout  of  how  the  device  should  

appear  on  the  wafer.  

(mirrored)  

The  design  paNern  must  be  mirrored  to  write  the  mask  

.  

Same  orienta7on  

Mask  Titles  are  Mask  7tles  are  typically  

(mirrored)  when  viewed    

 in  the  maskshop.  

These  same  mask  7tles  will  be      (not  mirrored)  

when  viewed    in  the  wafer  fab.  

Right-­‐Reading  Text  

Common  usage  of  the  terms  “ ”  and  “ ”  

   

                         

                         

 is  the  process  of  conver7ng  complex  polygons  in  the  design  data  into  simpler  shapes  in  a  raster  or  vector  format  used  by  the  mask  writers.  

-­‐  During  mask  fabrica7on,  the  clear  area  a  wriNen  a  liNle  smaller  than  it  was  designed.    This  is  known  as  sizing  or  biasing  the  data.    The  sized  data  is  

pushed  back  to  the  original  size  when  the  chrome  is  etched.  

Fractured,  Mirrored  Unfractured,  Unmirrored  

,  OASIS  Data,  Calma  GDS-­‐II  Stream  Data,  CalTech  

Intermediate  Format  (CIF)  Data,  DXF  Data,  Applicon  Data,  Gerber  Data,  IPC2581,  RS274X,  STL  Data,  ODB++  Data,  BMP  Data,  TIFF  Data,  ASCII  Data,  Mentor  Boardsta7on  Data,  Cadence  Allegro  Data,  EGS  Data,  ME-­‐10  Data,  STL  Data,  IGES  Data,  

ADS  Data  

Sizing   No  Sizing  

 

,  MEBES,  MEBES  Mode5,  Micronic  MIC,  Toshiba  NuFlare  

VSB11/12,  Heidelberg  LIC,  JEOL  52,  Hitachi  HL,    Raith  EBPG,  Varian  ALF,  

Leica  ZBA,  Leica  JES,  MANN  3000/3600,  Electromask  

the  easy  way  to  make  a  mask  

www.photomaskportal.com