Möglichkeiten und Limiten neuer Lasersysteme für die … · 2015. 9. 14. · Bern University of...
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Bern University of Applied Sciences
[INSIGHT] Laser for medical manufacturing 1.6.2011 / slide 1
Beat Neuenschwander
Institute for Applied Laser, Photonics & Surface Technologies ALPSBerner Fachhochschule Technik und InformatikPestalozzistrasse 203400 Burgdorf
Möglichkeiten und Limiten neuer Lasersysteme für die Fertigungstechnik in der Mikrobearbeitung
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Bachelorstudiengänge• Automobiltechnik• Informatik • Elektro- und Kommunikationstechnik • Maschinentechnik • Medizininformatik • Mikro- und Medizintechnik
Masterstudiengänge• Master of Science in Biomedical Engineering• Master of Science in Engineering
Umfassendes Weiterbildungsangebot (Bern)Managementzentrum (Wankdorf)Umfassende ManagementausbildungsmöglichkeitenMedizintechnik, MedizininformatikSoftware Schule Schweiz
Das Departement Technik und Informatik TI
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• Institute for Applied Laser, Photonics and Surface Technologies ALPS
• Institute for Printing Technology
• Energy, Transport and Mobility
• Human Centered Engineering HUCE
• ICT-based Management
• Institute for mechatronic systems ifms
• Institute for Rehabilitation and Performance Technology
• Institute for Risks and Extremes iREX
• Research Institute for Security in the Information Society
• Ubiquitous Mobile Communication Institute
Die 10 Forschungsinstitute an der BFH – TI
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Ein Departement an mehreren Standorten
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Site Biel:
• PhotonicsCh. Meier
• Heat Treatment of MaterialsJ. Rufer
• NanometrologyP. Walter
Site Burgdorf:
• Laser Surface EngineeringB. Neuenschwander
• Fiber Laser DevelopmentV. Romano
• Thin Films & SurfacesP. Schwaller
Cometencies and Research Groups:
• Lab for Material and Surface Analysis (M. Baak, J. Zürcher)
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• Einführung
• Landkarte der LaseranwendungenEinfluss von Spotradius und Pulsdauer
• Faserlaser
• Ultrakurze Pulse- Bearbeitung von Isolatoren und Metallen- Abtragmodel- Optimierungsstrategien
• Fazit
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Laserstrahlung trifft auf ein Material
Absorption: Pa
Durch die absorbierte Strahlung wird lokal Energie im Material deponiert, die das Material “aufheizt”.
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Was bewirkt die absorbierte Laserstrahlung?
Das führt zu „Änderungen“ im Material oder zur Entfernung (Aufschmelzen, Verdampfen) des Materials.
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Plasma-Bildung„Kochen“SchmelzenErwärmen
Ein
gebr
acht
e E
nerg
ie, E
in(J
/cm
3 )
Temperatur (K)
Energiebetrachtungen
Schmelzen ist viel effizienter als Verdampfen.
Je länger der Energie-eintrag dauert, desto tiefer dringt diese ins Material ein.
tD ∝
Mit dem Laserpointer wird es einfach nicht recht warm.
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Energiebetrachtungen
Schmelzfilm, Heat Affected Zone (HAZ)
Neben der eingebrachten Energie (pro Fläche) spielt auch die Einwirkzeit eine zentrale Rolle.
Schmelzen ist viel effizienter als Verdampfen.
Je länger der Energie-eintrag dauert, desto tiefer dringt diese ins Material ein.
tD ∝
Mit dem Laserpointer wird es einfach nicht recht warm.
Plasma-Bildung„Kochen“SchmelzenErwärmen
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010 510− 1010− 1510−
010
510
1010
1510
21 −⋅cmJ
21 −⋅cmmJ
21 −⋅ cmkJ
InterferometrieMetrologie
CD-Player
Industrie&
Medizin
Bohren
Schneiden
Beschichten
Härten Schweissen I
Schock Härten
Abtragen
LaserFusion
RöntgenLaser
Ultra-ku
rze
Pulse
Schw. II
Pulsdauer / s
Inte
nsitä
t / W
/cm
2
kürzer
grös
ser
Landkarte der Laseranwendungen
20
20
1wt
Ew
PI⋅
⋅∆∆
=⋅
=ππ
Verbessern der Strahlqualität M2:2
0 Mw ∝
Verkleinern der Wellenlänge λ:λ∝0w
Änderungen am Fokusradius führen in der Landkarte senkrecht nach oben oder unten.
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010 510− 1010− 1510−
010
510
1010
1510
21 −⋅cmJ
21 −⋅cmmJ
21 −⋅ cmkJ
InterferometrieMetrologie
CD-Player
Industrie&
Medizin
Bohren
Schneiden
Beschichten
Härten Schweissen I
Schock Härten
Abtragen
LaserFusion
RöntgenLaser
Ultra-ku
rze
Pulse
Schw. II
Pulsdauer / s
Inte
nsitä
t / W
/cm
2
kürzer
grös
ser
Landkarte der Laseranwendungen
20
20
1wt
Ew
PI⋅
⋅∆∆
=⋅
=ππ
Bei Änderungen der Einwirkzeit bleibt die Energie pro Fläche (Fluenz) konstant.
Bei Änderungen der Einwirkzeit bewegen wir uns schräg in der Landkarte.
Kurze Einwirkzeiten bei entsprech-enden Intensitäten sind nur im gepulsten Betrieb möglich.
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Faserlaser
• Klein, kompakt und hohe Steckdoseneffizienz• Sehr gute Strahlqualität• Breite Palette (von kW cw bis ns gepulst)
1.12 ≈M 42 ≈M
• Hohe Flexibilität und Möglichkeiten zur „Pulsformung“• Stabilität• Einfaches Handling und Preisgünstig
• Beschränkte Pulsenergie (abhängig von Pulsdauer)
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010 510− 1010− 1510−
010
510
1010
1510
21 −⋅cmJ
21 −⋅cmmJ
21 −⋅ cmkJ
InterferometrieMetrologie
CD-Player
Industrie&
Medizin
Bohren
Schneiden
Beschichten
Härten Schweissen I
Schock Härten
Abtragen
LaserFusion
RöntgenLaser
Ultra-ku
rze
Pulse
Schw. II
Pulsdauer / s
Inte
nsitä
t / W
/cm
2
kürzer
grös
ser
Beispiel: Schneiden von Stents
dry cutting wet cutting
Pictures from University of Manchester
• Klein, kompakt und Effizient• Sehr gute Strahlqualität• Stabilität• Einfaches Handling/ Preisgünstig
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010 510− 1010− 1510−
010
510
1010
1510
21 −⋅cmJ
21 −⋅cmmJ
21 −⋅ cmkJ
InterferometrieMetrologie
CD-Player
Industrie&
Medizin
Bohren
Schneiden
Beschichten
Härten Schweissen I
Schock Härten
Abtragen
LaserFusion
RöntgenLaser
Ultra-ku
rze
Pulse
Schw. II
Pulsdauer / s
Inte
nsitä
t / W
/cm
2
kürzer
grös
ser
AbtragenDas Abtragen mit Pulsen zwischen 10ns und 1µs wird industriell seit einiger Zeit eingesetzt.
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Bei ultrakurzen Pulsen kann die eingebrachte Energie aufgrund der sehr kurzen Einwirkzeit kaum in die Umgebung abfliessen.
Deshalb können Materialien sehr lokal mit einer verschwindend kleinen Wärmeeinflusszone bearbeitet werden.
150 fs 3.3 ns
Präzise Bearbeitung mit ultrakurzen Pulsen
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Für die Distanz Erde – Mond braucht das Licht ca. 1.25 s
Menschenhaar, Dicke ca. 60 µm:
Für 60 µm braucht das Licht 200 fs (200.10-15 s)
Durchmesser einer kleinen LED 3 mm:Für 3 mm braucht das Licht 10 ps (10.10-12 s)
Ultrakurze Pulse sind wirklich kurz!
Was heisst ultrakurz?
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0.0E+00
2.0E+06
4.0E+06
6.0E+06
8.0E+06
1.0E+07
-125 -75 -25 25 75 125
P /
W
t / ps
Momentanleistung bei verschiedenen Pulsdauern und einer Pulsenergie von Ep = 40 µJ
∆τ = 100 ps∆τ = 20 ps∆τ = 4 ps
∆τ = 10 nsPp = 3.8 kW
∆τ = 10 psPp = 3.8 MW
∆τ = 10 fsPp = 3.8 GW
1.0E+00
1.0E+01
1.0E+02
1.0E+03
1.0E+04
1.0E+05
1.0E+06
1.0E+07
1.0E+08
1.0E+09
1.0E+10
0.01 0.1 1 10 100 1000 10000
P pea
k/
W∆τ / ps
Spitzenleistung bei verschiedenen Pulsdauern und einer Pulsenergie von Ep = 40 µJ
Mit ultrakurzen Pulsen können auch mit sehr geringen Pulsenergien immense Spitzenleistungen erzielt werden.
τ∆≈ P
pEP
Was heisst ultrakurz?
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Prep EfP ⋅=
kHzfWP rep 1004 =→=
kHzfWP rep 50020 =→=
kHzfWP rep 500'2100 =→=
Beispiele für mittlere Leistungen bei ∆τ = 10 ps Pulsen und einer Pulsenergie von EP = 40 µJ.
kmd 3=
md 600=
md 120=
mmdP 3=
Was heisst ultrakurz?
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Isolatoren sind für die Laserwellenlänge oft transparent.
Für ns-Pulse werden Wellenlängen im UV (höhere Absorption) benötigt.
Bei ultrakurzen Pulsen ist die Spitzenintensität so hoch, dass nichtlineare Prozesse eintreten.
Valenzband
Leitungsband
ν⋅h
ν⋅h
ν⋅h
Mehrphotonenabsorption Frequenzkonversion
Für Isolatoren scheinen kürzere Pulse (-> fs) vorteilhaft zu sein. Aber für viele Materialien reichen Pulse im ps-Bereich bereits aus.
Isolatoren
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1mm 1.5 mm
Fast beliebig geformte 3-d Strukturen können in transparenten Materialien realisiert werden.
λ = 355 nm; ∆τ ~ 10 ps, w0 = 5 µm
Beispiel: Bearbeitung von Saphir
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Beispiel: Schneiden von Kunststoff
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Beispiel: Schneiden von Papier
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λ = 532 nm; ∆τ ~ 10 ps, w0 = 7 µm
Laser Pulse mit ∆τ ~ 10 ps sind hervorragend geeignet für praktisch jede Art der Mikrobearbeitung von Metallen
9.8 mm
5.75
mm
Strukturieren und Schneiden von Metallen
Beim Schneiden muss die Geometrie mehrmals abgefahren werdenBeim konventionellen Prozess leidet die Qualität der Schnitt-kante stark.
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Neben der Qualität ist vor allem die Prozesseffizienz ∆V/∆t von Interesse.
Die Prozesseffizienz ist vor allem auch eine Frage der mittleren Leistung Pav.
min25.0;4
3mmtVWPav =
∆∆
=
min5.240
3mmtVWPav =
∆∆
⇒= ?
Prozesseffizienz
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Prepav EfP ⋅=
Wir können die Pulsenergie EP oder die Repetitionsrate frep (Anzahl Pulse pro Zeit) erhöhen.
Was ist der Unterschied?
Steigern der mittleren Leistung
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Hammer und Nagel
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⋅=
thablz
φφδ ln
0
20
40
60
80
100
120
140
160
180
200
0 0.5 1 1.5 2 2.5 3
z abl
/ nm
φ / J/cm2
Logarithmic Ablation Law
Dabei nehmen wir an, dass der vorangegangene Pulse die Eigenschaften der Oberfläche für den nachfolgenden Puls nicht verändert.
1 pu
lse
2 pu
lses
3 pu
lses
4 pu
lses
5 pu
lses
6 pu
lses
Wir verteilen dieselbe Energie auf mehrere Pulse kleinerer Fluenz.
Für eine vorgegebene Energie existiert eine optimale Anzahl Pulse bei der am meisten Material abgetragen wird.
Verteilung der Energie auf mehrere Pulse
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thav
opt
wePf
φπ112
20
2 ⋅⋅
⋅=
thav ePV
φδ
⋅= 2max 2
Die Maximale Abtragrate skaliert linear mit der mittleren Leistung.Die optimale Repetitionsrate skaliert bei festem Spotradius auch linear mit der mittleren Leistung.
Gauss
0
2
4
6
8
10
12
0 500 1000 1500 2000Repetition rate / kHz
Abl
atio
n ra
te /m
m3 /m
in
fopt
dV/dt max
thPEe ,2
12⋅=
Abtragrate bei konstanter mittlerer Leistung
mwWPav µ15,10 0 ==
Maximale Abtragrate bei optimaler Repetitionsrate.
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Steel 1.4301
0
0.5
1
1.5
2
2.5
3
3.5
4
4.5
5
0 10 20 30 40w0 / µm
f opt
/ M
Hz/
W
Optimale Repetitionsrate für Stahl 1.4301
φth = 0.08 J/cm2 , δ = 6 nm
thav
opt
wePf
φπ112
20
2 ⋅⋅
⋅=
Wmm
ePV
thav ⋅=⋅=
min12.02 3
2max
φδ
Die optimale Repetitionsrate kann bei mittleren Leistungen von einigen Watt rasch in den Bereich einiger MHz gehen.
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Neben der Qualität ist vor allem die Prozesseffizienz ∆V/∆t von Interesse.
Die Prozesseffizienz ist vor allem auch eine Frage der mittleren Leistung Pav.
min25.0;4
3mmtVWPav =
∆∆
=
min5.240
3mmtVWPav =
∆∆
⇒= ?
Prozesseffizienz
Die Prozesseffizienz skaliert linear mit der mittleren Leistung, aber nur wenn die Repetitionsrate optimal gewählt wird.
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Aufheizen der Oberfläche:
Auch im Fall ultrakurzer Pulse wird ein Teil der Energie in Wärme umgewandelt. Für hohe mittlere Leistungen führt dies zu Aufschmelzen und Oxidieren der Oberfläche.-> Die Energie der Laserstrahlung muss auf einem genügend grossen
Gebiet eingebracht werden, d.h. der Strahl muss über die Oberfläche bewegt werden.
Um eventuelles „Particle shielding“ zu vermeiden, sollte der nachfolgende Puls genügend weit entfernt auftreffen.
Begrenzende und limitierende Faktoren
Ab Repetitionsraten von ungefähr 1 MHz sollte der Strahl zwischen zwei Pulsen um einen Fokusdurchmesser bewegt werden.
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Begrenzende und limitierende Faktoren
repopt fwv ⋅≥ 0 2/0wdL ≈
w0 = 7 µm, f = 250 kHz
Gute Rauheiten werden mit einem Pulsabstand ab einem Fokusradius und einem Schraffurabstand von einem halben Fokusradius erreicht.
Mittlere Oberflächenrauheit:
Ein Puls zu Puls Abstand von einem Strahldurchmesser ist auch hier vorteilhaft.
2.5 mm
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Beispiel: Einzelne Linien 50µm Breite in Stahl 1.4301Parameter: φth = 0.08 J/cm2 , δ = 6 nm Spot radius: w0 = 25 µm
Marking at maximum ablation rate
0
50
100
150
200
250
300
350
400
450
0% 20% 40% 60% 80% 100%Pulse to pulse overlap
v opt
/ m
/s
Pav = 10 WPav = 25 WPav = 50 W
Wminmm
PV
av ⋅=
3max 12.0
WMHzfopt [email protected]=
WMHzfopt [email protected]=
WMHzfopt [email protected]=
Benötigt werden markiergeschwindigkeiten von einigen 10 m/s bis zur Schallgeschwindigkeit.
(√)
(√)
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Beispiel: Oberflächenstrukturierung von Stahl 1.4301Parameter: φth = 0.08 J/cm2 , δ = 6 nm
Wminmm
PV
av ⋅=
3max 12.0
Spot radius: w0 = 5 µm
Ein Spotradius von 5µmbenötigt typischerweise eine f = 50 mm Optik.
Marking speeds for maximum Rates
0.01
0.1
1
10
100
1000
10000
0.01 0.10 1.00 10.00 100.00Average Power / W
v opt
/ m
/s
90% Overlap75% Overlap50% Overlap
Die Markiergeschwindigkeit von 1 m/s kann nur bis ca. 100 mW erreicht werden.
Für 10W und mehr mittlere Leistung übersteigen die Geschwindigkeiten 10 m/s.
Im Moment existieren keine Strahlführungssysteme die diese Geschwindigkeiten bei der nötigen Auflösung ermöglichen, d.h. das Arbeiten am optimalen Punkt ist ab einigen Watt mittlerer Leistung nicht mehr möglich.
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[INSIGHT] Laser for medical manufacturing 1.6.2011 / slide 36
Mit ultrakurzen Pulsen können trotz moderaten mittleren Leistungen sehr hohe Spitzenleistungen erzielt werden. Deshalb eignen sie sich hervorragend zur Bearbeitung von Metallen, Halbleitern und Isolatoren.
Bestehende Prozesse müssen angepasst werden, z.B. Schneiden.
ZusammenfassungNeue Laserquellen eröffnen neue Möglichkeiten bestehende Prozesse effizienter und billiger zu gestalten oder qualitative bessere Resultate zu erzielen.
Insbesondere bei Metallen skaliert die Abtragrate mit der mittleren Leistung, wenn die optimale Repetitionsrate gewählt wird. Diese Repetitionsraten gehen sehr schnell in den Bereich einiger MHz.
Ein Puls zu Puls Abstand von einem Spotradius und mehr ist von Vorteil. Das führt zu Markiergeschwindigkeiten die die Möglichkeiten heutiger Strahlführungssysteme für die Oberflächenstrukturierung bei weitem überschreiten.
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Damit das Mögliche entsteht, muss immer wieder das Unmögliche versucht werden
Hermann HesseBesten Dank für Ihre Aufmerksamkeit!
FazitDer grosse „Flaschenhals“ zur möglichst effizienten Nutzung ultrakurz gepulster Hochleistungssysteme sind im Moment nicht die Lasersysteme selbst, sondern die Strahlführung.