Lecture 9 Through Mask Plating

8
國國國國國國 國國國國國國國國 國國國國國國國 微微微微微微微微微微 Lecture 9 Through Mask Plating x 4324 [email protected] References: Madou, M., “ Fundamentals of Microfabrication”, CRC Press, 1998.

description

Lecture 9 Through Mask Plating. 柳 克 強 x 4324 [email protected]. References: Madou, M., “ Fundamentals of Microfabrication”, CRC Press, 1998. Electro-deposition for Micro-devices. Through Mask Plating. Damascene Plating. Insulator deposition and patterning Seed-layer deposition. - PowerPoint PPT Presentation

Transcript of Lecture 9 Through Mask Plating

Page 1: Lecture 9 Through Mask Plating

國立清華大學 工程與系統科學系

曾繁根助理教授微系統暨微熱流實驗室

Lecture 9 Through Mask Plating

柳 克 強x [email protected]

References:

Madou, M., “ Fundamentals of Microfabrication”, CRC Press, 1998.

Page 2: Lecture 9 Through Mask Plating

國立清華大學 工程與系統科學系

曾繁根助理教授微系統暨微熱流實驗室

Electro-deposition for Micro-devices

Through Mask Plating Damascene Plating

substrate

seed layer

Seed layer deposition and Patterning

Insulator deposition and patterningSeed-layer deposition

Plating Plating

Mask removalSeed-layer etching

Planarization

Page 3: Lecture 9 Through Mask Plating

國立清華大學 工程與系統科學系

曾繁根助理教授微系統暨微熱流實驗室

Electroplating

e

anodecathode

Cl+Na2+

KCl : Supporting electrolyteNiCl2 : Electro-active species

KCl

NiCl2

Reactions:

Ni2+ + 2 e Ni (cathode reaction)2Cl 2 e + Cl2 (anode reaction)

NiCl2 Ni + Cl2

Amount of deposited material :

Fz

MtIm

max

F: Faraday constant (electricity required to deposit 1 g equivalent of substance)I : currentt : deposition timeM : molecular weigh of the depositing materialz : ion’s charges #

2H+ + 2 e H2 (competing reaction at cathode )

=> PH value important !!

Page 4: Lecture 9 Through Mask Plating

國立清華大學 工程與系統科學系

曾繁根助理教授微系統暨微熱流實驗室

Diffusion Limited Reactions

Diffusion limited cathode current:

current density RTnFo

ceii 1

Nonlinear diffusion effect on microelectrodes

Page 5: Lecture 9 Through Mask Plating

國立清華大學 工程與系統科學系

曾繁根助理教授微系統暨微熱流實驗室

Lr

CANFDI

o

oml

,

Nonlinear diffusion effect on microelectrodes Effect of current density on stress

Page 6: Lecture 9 Through Mask Plating

國立清華大學 工程與系統科學系

曾繁根助理教授微系統暨微熱流實驗室

• 氨基磺酸鎳 300 公克 / 公升• 氯化鎳 20 公克 / 公升• 硼酸 40 公克 / 公升• LN-MU ( 應力降低劑 )

• LN-MA ( 平滑劑 , 光澤劑 )

• 針孔抑制劑

電 鍍 鎳(NTHU ESS Micro-fabrication lab)

電 鍍 結 果配 方

Page 7: Lecture 9 Through Mask Plating

國立清華大學 工程與系統科學系

曾繁根助理教授微系統暨微熱流實驗室

電 流 密 度 影 響

• 電流密度 15 mA/cm2 • 電流密度 40 mA/cm2

其他參數: PH 值、溫度、表面活化劑

Page 8: Lecture 9 Through Mask Plating

國立清華大學 工程與系統科學系

曾繁根助理教授微系統暨微熱流實驗室

High Aspect Ratio Structure Plating

Challenges:

Ni2+ current diffusion limited => deposition rate

H+ at bottom depleted => PH increase locally => form nickel hydroxide

=> deposition stopped